![晶体硅太阳电池物理](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/670/35808670/b_35808670.jpg)
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5.8 表面复合引起的界面电流
本节讨论厚度为Δx的表面薄层中单位时间、单位面积上载流子复合的情况。
在p型半导体中,按照式(5-163),表面复合率为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_1.jpg?sign=1738834184-XNqALv70YFFDTqcgLuyqjlUtudd5dwwQ-0-f5ebe167b31f267ed2228b537a28909b)
从连续性方程可知,少子向表面流失会引起表面复合电流。在热平衡状态下,稳态又无外界作用时,即无光照或外加电压时,Gn=0,按式(5-182)可得:
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_2.jpg?sign=1738834184-1S4O3wHMHGZvStfWPStbRTUe65PtzRn9-0-70e08bd0351f5b5527b96fdafbc9667a)
对薄层Δx积分后,得到在界面位置xs处电子电流的变化量为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_3.jpg?sign=1738834184-pvI3M2iJLlwtDAaiE0DMPkSkNuzJ5X6i-0-6225396c9ee75386b9f66b1471547ec1)
如果界面是n型半导体表面,,那么表面的电子电流密度为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_5.jpg?sign=1738834184-x0GH9rfqF1dfbOzt45To0zhhooKEsbdP-0-fe2af06d920ed69a54304f2c03dbe6b5)
式中,负值表明电子电流密度Jn的方向与少子(即电子)发生表面复合的运动方向相反。
类似地,在n型半导体的表面上,空穴电流的变化量为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_6.jpg?sign=1738834184-1VXhRF4cYuuKaz4nyX2hWbzOHo0k5ilq-0-71495d585c0aa776d62a7b9d4f5817a9)
如果界面是p型半导体表面,,那么表面的空穴电流为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_128_8.jpg?sign=1738834184-bmYd6ppq2uaUbc7s1lI8mj9ww7gahMID-0-0854aeaab7a283f9dca05206715eba4b)
空穴电流Jp的方向与少子(即空穴)发生表面复合的运动方向相同。
上述公式也很重要,在求解基本方程时,这些公式是太阳电池表面的边界条件。